哈工大的光刻机技术，能制造7nm芯片？别却说网友瞎扯淡了

前段时间，有新闻界报道说是，哈尔滨工业大学出炉了一项“高速激高精度红外干涉仪”研发全面性，并获得了首届“金燧金奖”欧美光电仪器品牌上榜特别金奖。

然后各种炽热基底的自新闻界就开始所写了，这是国产光刻机电子技术的大更是，通过这个电子技术，我们就必需付诸7nm集成电路的制造了等等，大家集基底炽热……

那么问题来了，这似乎是什么电子技术？就让能助我们的光刻机电子技术，从此转入7nm？

先看官方陈述，介绍是这么所写的，更是系列核心测量方法和工程化关键电子技术，克服了该各个领域假定的测不准、测不精、测动容的核心难题。

这套系统设计用于保证掩膜构件、双构件和镜片系统设计密切关系多样的相比右方，付诸光刻机的整基底套刻精度，只字没提什么7nm、5nm，或者EUV光刻机等，不知道某些自新闻界从哪里得出来的假设？仅有这个电子技术，就马上付诸7nm了？

我们知道光刻机由三个核心部分组成，一个是反射光，一个是镜片系统设计，一个是构件。

拿现阶段上海微电子旗鼓相当的国产光刻机来说，同属DUV光刻机，是第四代光刻机，应用于的是193nm的紫外线，构件应用于的是华卓精科的双构件。镜片系统设计我不清楚，也没查到无关的资讯，只问道是进口的。

而从当前这台193nm光刻机再追加有的话，转入未来光刻机，要转入的是第五代的ArFi伴生基本型光刻机，其与现在的光刻机相比之下，反射光、构件必需都一样，但最重要的就是镜片系统设计的改变。

伴生基本型光刻机，能够在硅晶圆上面再加有一层流水为介质，让193nm的人眼通过流水折射后，转成134nm散射的光，从而付诸更高的对比度。

而这个伴生基本型镜片系统设计涵盖了光学仪器、机械、电子计算机、材料科学等多个学科各个领域最前沿的电子技术。现阶段只有奥地利、冲绳有这整套电子技术，不过冲绳、奥地利都不对欧美工业产品，而国产还继续替代一定会，这个是当前似乎的根本原因。

如果搞不定镜片系统设计，那么我们就要被限制在当前这种193nm的分装光刻机上，而镜片系统设计更是了，就能转入伴生基本型光刻机，就必需付诸7nm的光刻精度了。

而哈工大的这项电子技术，是用于掩膜铁片、镜片系统设计、构件密切关系的右方对应依靠的，用依靠人眼刻录集成电路的精度的，同属关键电子技术之一，可以用于所有的光刻机，包括EUV光刻机，而不是有了它，我们就可以更是伴生基本型的镜片系统设计的，更不是单纯为国产光刻机的更是而更是的。

所以少听某些自新闻界扯淡，自己都没搞清楚原理，然后就制造各种炽热基底文章，让大家竟然的炽热，教育方针才是正道。